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[서울=뉴스핌] 배상희 기자 = 중국 반도체 산업의 증산 사이클이 본격화되면서 웨이퍼 제조업체뿐 아니라 생산라인에 투입되는 핵심 소재 기업으로 관심이 확산되고 있다. 특히 주요 메모리·파운드리 업체들이 생산능력 확대와 첨단 공정 전환에 속도를 내면서 전구체와 전자특수가스, 포토레지스트 등 핵심 소재의 안정적인 공급망 구축이 새로운 경쟁력으로 부상하고 있다.

그 가운데 중국 최대 D램 제조사 창신메모리테크놀로지(長鑫科技∙CXMT 688825.SH)의 공급사 중 하나인 남대광전기재료(南大光電∙NATA 300346.SZ)에 관심이 쏠린다.

반도체 공정에 사용되는 금속유기 전구체(MO Sources)라는 기존 사업에서 창출되는 안정적인 매출을 바탕으로 불화아르곤(ArF) 포토레지스트 등 고난도 소재의 고객 인증과 공급을 확대하며 중국 반도체 소재 국산화의 주요 업체로 자리매김하고 있다.

반도체 증산이 단순한 생산능력 경쟁을 넘어 소재 기술력과 공급 안정성 경쟁으로 확산되는 가운데, 남대광전기재료가 축적해온 제품 포트폴리오와 고객 인증 역량이 향후 성장성을 가늠할 핵심 변수가 될 전망이다.

◆ 반도체 소재 주력군, '3대 사업라인' 구축

남대광전기재료는 중국 최대 D램 제조사 창신메모리테크놀로지(長鑫科技∙CXMT 688825.SH)를 비롯해 중국 최대 파운드리 SMIC(中芯國際∙중신궈지 688981.SH/0981.HK) 중국 최대 낸드(NAND) 플래시 메모리 업체 양쯔메모리(長江存儲∙YMTC), 중국 2위 파운드리 화훙훙리(華虹宏力∙HUAHONG GRACE 688347.SH/1347.HK, 2026년 6월 8일부터 기존 화훙반도체에서 화훙훙리로 기업명 변경) 등 중국 주요 웨이퍼 제조업체를 주요 고객사로 확보하고 있다.

현재 남대광전기재료의 핵심 사업라인은 △전구체 소재 △전자특수가스 △포토레지스트 및 배합소재 등 3대 영역으로 구분된다.

1. 전구체 소재

반도체 공정에 사용되는 금속유기 전구체(MO Sources)를 비롯해 고객 요구에 맞춘 정제·커스텀 제품, 차세대 실리콘 전구체, 원자층 증착(ALD)과 화학기상증착(CVD) 등 반도체 박막 형성 공정용 전구체, OLED용 전구체 등을 아우르는 포트폴리오를 구축하고 있다.

그 중에서도 MO Sources는 남대광전기재료의 핵심 사업으로, LED·반도체·태양광 등 다양한 분야에 관련 제품을 공급하고 있다.

반도체용 첨단 전구체 분야에서는 국내 주요 웨이퍼 제조업체를 대상으로 제품 공급 및 고객 인증을 확대하고 있으며, 고부가가치 신제품의 판매 확대를 통해 제품 구조를 고도화하고 있다.

회사의 고부가가치 첨단 전구체는 기존 MO Sources 사업과 함께 회사의 반도체 소재 사업에서 중요한 성장축으로 부상하고 있다. 실제로 2026년 1분기 첨단 전구체 매출은 전년 동기 대비 22% 증가했으며, 매출총이익 기여도도 전년 동기 대비 23% 증가했다.

2. 전자특수가스

전자특수가스는 회사 전체 매출의 가장 큰 비중을 차지하는 핵심 캐시카우(수익창출원)이다.

수소계와 불소계 전자특수가스를 중심으로 반도체·LED·화합물반도체 등 다양한 전자산업 공정에 필요한 가스를 공급하고 있다. 특히 반도체용 고순도 특수가스 분야에서 제품군을 확대하고 주요 웨이퍼 제조업체를 대상으로 고객 인증과 공급 확대를 추진하고 있다.

주요 제품으로는 PH₃(포스핀), AsH₃(아르신), BF₃(삼불화붕소), NF₃(삼불화질소), SF₆(육불화황) 등이 있다.

특히 회사는 고순도 NF₃ 사업 확대에 집중하고 있다. 회사는 5.5N급 고순도 전자급 NF₃의 생산능력 확대를 추진하고 있으며, 2026년 6월에는 연산 2000톤 규모의 고순도 전자급 NF₃ 증설 프로젝트가 계획대로 진행되고 있다고 밝혔다.

전자특수가스는 반도체 제조 과정의 식각과 챔버 세정, 절연가스 등에 사용되는 핵심 공정 소재로, 고순도 제품을 안정적으로 공급하는 것이 중요한 경쟁력이다. 이에 따라 전자특수가스 사업은 기존 제품의 공급 확대와 신규 고순도 제품의 양산을 통해 회사의 반도체 소재 사업에서 중요한 매출 및 성장축으로 자리매김할 가능성이 주목된다.

3. 포토레지스트 및 배합소재 

포토레지스트는 회사가 사업 확대를 추진하고 있는 주요 반도체 소재 가운데 하나다. 특히 ArF(불화아르곤) 등 고급 포토레지스트 제품의 고객 인증과 공급 확대가 진행되면서 새로운 성장축으로 주목 받고 있다.

회사는 KrF 포토레지스트 제품의 양산 및 공급을 확대하고 있으며, 특히 ArF 포토레지스트 분야에서 제품 개발과 고객 인증을 진행하고 있다는 점에서 경쟁우위가 있다. 일부 ArF 제품은 고객 인증을 완료하고 주문을 확보하는 등 연구개발 단계에서 실제 공급 단계로 사업 영역을 넓혀가고 있다.

ArF 생산능력 측면에서는 현재 50톤 규모의 연산 능력을 보유하고 있다. 2026년 8월 투자자와의 소통 플랫폼을 통해 회사는 6개 ArF 제품이 고객 인증을 통과해 판매되고 있다고 밝혔다. 다만 현재 50톤 생산능력은 아직 완전 가동 상태가 아니며, 추가로 여러 제품의 고객 인증도 진행하고 있다.

일부 매체를 통해 닝보(寧波)시에 연산 500톤 규모의 신규 생산라인을 구축했다는 소식이 전해진 바 있으나 이에 대해 회사 측은 "ArF 포토레지스트 생산능력은 연간 50톤이며, 연산 500톤 규모의 신규 생산라인을 건설할 계획은 없다"고 답변했다. 이어 "2025년 ArF 포토레지스트 매출은 2000만 위안을 넘어섰으며, 현재 판매 상황은 안정적"이라고 밝혔다.

향후 포토레지스트 사업의 성장성을 판단할 때는 단순한 증설 규모보다 추가 ArF 제품의 고객 인증, 인증 제품의 안정적인 양산 및 공급 확대 그리고 현재 50톤 생산능력의 가동률 상승 여부가 핵심 변수가 될 전망이다.

회사 역시 2026년 8월 고객 주문에 따라 ArF 포토레지스트를 생산·판매하고 있으며 제품 인증과 시장 확대를 적극 추진하고 있다고 밝혔다.

◆ 중국, 포토레지스트 국산화 경쟁 본격화

포토레지스트는 노광 공정에 사용되는 핵심 소재로, 웨이퍼 위에 미세한 회로 패턴을 형성하기 위한 패터닝 과정에서 중요한 역할을 한다. 일반적으로 노광 파장이 짧아질수록 더 미세한 패턴을 구현하는 데 유리하지만, 첨단 공정으로 갈수록 포토레지스트는 해상도와 감도는 물론 라인 에지 거칠기(LER), 결함, 공정 안정성 등 여러 성능 요소를 동시에 충족해야 한다.

중국 반도체 소재 산업의 국산화는 성숙 공정용 제품을 넘어 고부가 포토레지스트로 이동하고 있다. 성숙 공정용 포토레지스트에서 시작한 중국 기업들이 불화아르곤(ArF)·불화크립톤(KrF)·극자외선(EUV) 등 고부가 제품으로 얼마나 빠르게 이동하느냐가 향후 경쟁력을 가르는 핵심 요소가 되고 있다.

반도체용 포토레지스트는 노광 파장에 따라 크게 g선(436nm), i선(365nm), KrF(248nm), ArF(193nm), EUV(13.5nm) 등으로 구분된다. ArF 이머전(ArFi)은 193nm ArF 광원을 액침 방식으로 사용하는 기술로, 기존 건식 방식보다 높은 해상도를 구현하기 위해 활용된다.

제품 세대가 올라갈수록 기술 난도 역시 높아진다. 일반적으로 파장이 짧을수록 미세한 회로 패턴 형성에 유리하기 때문이다. 특히 KrF와 ArF는 현재 DUV 기반 미세공정에서 중요한 포토레지스트이며, ArFi와 EUV로 갈수록 소재 성능과 공정 안정성에 대한 요구 수준이 더욱 까다로워진다.

중국 업체들의 국산화 움직임은 이제 성숙 공정용 포토레지스트를 넘어 KrF와 ArF 등 첨단 제품으로 확산되며 본격적인 기술 경쟁 국면에 진입하고 있다.

<[中 거인의 공급망] ②ArF·첨단전구체 '남대광전기재료' 없으면 'CXMT'도 없다>로 이어짐.

pxx17@newspim.com