[뉴스핌=김양섭 기자] 시노펙스가 국내 최대 규모의 반도체 산업 전시회인 세미콘 코리아(SEMICON Korea) 2017에서 자체 기술력으로 개발한 국내최초 차세대 CMP필터를 공개한다고 6일 밝혔다.

CMP필터는 반도체 제조 핵심공정인 웨이퍼(Wafer) 연마에 사용되는 용액인 슬러리(Slurry)를 여과하는데 적용되는 필터로, 첨단 반도체 제조 공정 특정상 높은 품질과 신뢰성이 중요한 제품이다.

시노펙스가 이번 개발한 차세대 CMP필터는 나노섬유(Nano-fiber)가 적용되었다. 나노섬유는 아주 가느다란 섬유로 높은 기공을 유지하면서 작은 공극 크기로 필터 제조가 가능한 필터 소재이며, 넓은 여과면적으로 높은 효율성과 낮은 차압으로 심층여과가 가능하게 설계돼 필터의 수명도 더 늘어나게 하는 핵심소재이다.

첨단 반도체 제조공정에서 요구되는 미세한 여과시장의 니즈는 꾸준히 높아가고 있다. 기존 멜트브라운(Melt-Brown) 소재로 다양해지는 첨단 반도체 제조공정에서 효율적인 여과의 한계가 있어왔다. 시노펙스는 이번 기술개발로 슬러리에 포함되어 결함을 일으키는 미세입자는 제거하고 결함이 없는 연마입자는 통과 시키는 더욱 정교한 필트레이션 솔루션을 제공할 수 있게 됐다.

현재 시노펙스는 나노(Nano)급 필터 제품을 생산할 수 있는 핵심 원천기술을 가지고 있다. 더 미세화되고 있는 CMP slurry에 적합한 필터를 개발하고 차후 30nm, 20nm이하까지 사용되도록 다양한 소재와 구조를 갖는 고효율 여과기술을 위해 지속적인 R&D 투자를 하고 있다.

시노펙스는 D램 분야 세계 최대의 반도체 제조 기업인 삼성반도체에 1차 협력업체로 반도체 제조 핵심공정용 필터납품을 진행 중이다. 반도체 분야 유틸리티 필터 기술력을 입증받아 품질향상과 원가절감에 기여하고 있다.

시노펙스 이형일 필터사업부장은 “세미콘코리아에서 국내최초 고성능 필터를 선보이게 돼 자랑스럽고 기쁘다”면서 “이번에 개발한 제품을 바탕으로 연간 약 6,000억원 규모로 예상되는 세계 반도체 초정밀 여과용 필터시장을 집중 공략할 것이다.”라고 밝혔다.

시노펙스는 "국내 시장의 선도적인 초정밀 파티클을 제거하는 액체여과 필터 사업을 신성장동력으로 삼아 의료, 제약, 디스플레이, 바이오시밀러 등 다양한 분야의 시장 진출에 박차를 가할 것"이라고 밝혔다.

[뉴스핌 Newspim] 김양섭 기자 (ssup825@newspim.com)